1996年8月,荷蘭,埃因霍溫,ASML總部。
一輛不起眼的黑色轎車,駛入ASML總部園區。
車裏坐着兩位西裝革履的中年亞洲男子,他們是某家港城註冊、背景模糊的電子工程諮詢公司的代表。
前臺查驗了預約函,禮貌地引導他們前往一間小型會議室。
會議室內,ASML派出了一位負責亞太區技術合作的經理,以及一位專利分析師。氣氛客氣而疏離。
對於這家名不見經傳的諮詢公司,ASML並未給予太高規格的重視。
“......我們受一家客戶的委託,希望瞭解貴公司在193nm ArF乾式光刻機,後續演進路線上的技術規劃,特別是關於在投影物鏡與晶圓之間,引入高折射率介質以提升分辨率,這一技術方向的相關專利佈局情況。
諮詢公司代表操着流利的英語,開門見山,語氣專業而剋制。
ASML的兩位代表對視一眼,眼中閃過一絲不易察覺的疑惑和警覺。
“抱歉,關於具體的技術路線規劃,屬於公司核心機密,不便對外透露。”技術經理禮貌地回絕道。
“至於您提到的引入高折射率介質......這一方向,據我所知,業界目前尚無成熟的研究成果。
貴方客戶是否有特定的技術方案可以提供?我們可以探討合作的可能性。”
“我們客戶在相關領域有一些初步的研究積累,並已提交了部分專利申請。”
諮詢公司代表微微一笑,從公文包中取出一份薄薄的,不包含任何具體技術細節的清單。
“在正式探討合作之前,我們希望先瞭解一下,貴公司在該領域的專利佈局情況,以避免潛在的侵權風險。
這是我們的專利清單摘要,供貴方參考。”
ASML的專利分析師接過清單,目光快速掃過幾行標題。
起初,他的表情還算輕鬆。但當他看到幾個關鍵專利的名稱,和優先權日期時,他的臉色,瞬間變得凝重起來。
"Priority date: 1993......1994......1995......”他低聲念着,聲音帶着一絲難以置信,"Immersion lithography apparatus and method......High refractive index fluid delivery system for projection lens......Te
mperature control mechanism for immersion medium......"
這些專利的申請時間,竟然比ASML內部,任何關於浸沒式的初步討論記錄,都要早上數年!
而且,專利的權利要求範圍,撰寫得極其老辣,幾乎覆蓋了浸沒式光刻從原理、結構到工藝控制的每一個關鍵環節!
“請問,貴方客戶......是哪家公司?”ASML技術經理的語氣,再也無法保持之前的從容,帶上了一絲不易察覺的緊迫。
“抱歉,在雙方達成初步合作意向之前,我們客戶的名稱,需要保密。”諮詢公司代表站起身,禮貌地欠了欠身。
“感謝貴方的接待。我們會將今天的交流情況,向客戶彙報。期待後續進一步的溝通。”
說完,兩位代表便轉身離開了會議室,留下ASML的兩位代表,面對着那份薄薄的專利清單摘要,面面相覷,臉色陰沉得能滴出水來。
他們意識到,一個潛在的,足以顛覆現有光刻技術路線的巨獸,可能已經悄然浮出水面。而他們對此,幾乎一無所知。
同一天,美國,加州聖克拉拉,Applied Materials (應用材料)總部。
幾乎相同的一幕,正在上演。只不過,這次諮詢公司代表關注的焦點,是用於半導體制造的原子層沉積(ALD)設備和工藝的相關專利。
而在大洋彼岸的龍國魔都,那間不起眼的淵基地深處,秦師傅正帶着一羣老夥計,圍着一臺剛剛組裝完成的,閃爍着金屬冷光的精密工件臺原型機,進行着最後的調試。
伺服電機發出低沉的嗡鳴,氣浮導軌上的滑塊,以肉眼幾乎無法察覺的精度,進行着微米級的往復運動。
在千裏之外的京城星火基地,計算光刻聯合實驗室的服務器陣列,正滿載運轉,指示燈如星河般閃爍。
一行行優化後的代碼,正在試圖馴服那狂暴的光學衍射效應。
在更隱祕的,只有謝建軍和極少數核心成員才知道的,燭照計劃辦公室裏,一份份精心撰寫的,覆蓋了EUV光刻、多層反射鏡、以及下一代光刻膠等更遠期技術方向的防禦性專利申請文件,正在被逐字逐句地審覈、定稿。
潛龍,仍在深淵之中,默默積蓄着力量。
但風雲,已經開始湧動。
大洋彼岸的巨人們,已經嗅到了一絲來自東方的、令他們不安的氣息。
一場真正的、決定未來數十年,全球半導體產業格局的較量,正在悄然拉開序幕。
1996年9月,荷蘭,埃因霍溫,ASML總部,高層緊急會議。
會議室的窗簾拉得嚴嚴實實,隔絕了窗外明媚的陽光。
空氣裏瀰漫着濃烈的咖啡味,和一種壓抑到令人窒息的沉默。
長桌兩側,坐着ASML的CEO、CTO、首席知識產權官以及幾位核心董事。
每個人面前的桌上,都擺着一份薄薄的,但內容足以讓他們寢食難安的文件夾,那是關於那家神祕的港城諮詢公司,及其背後客戶提交的浸沒式光刻專利清單的初步分析報告。
“先生們,我需要一個準確的判斷。”CEO,一位頭髮銀白、氣質沉穩的荷蘭人,打破沉默,聲音低沉而嚴肅的說道。
“這些專利,到底是某個競爭對手放出的煙霧彈,用來擾亂我們的研發方向?還是......真的有某個我們尚未察覺的實體,已經在這個領域,走到了我們前面?”
CTO是一位戴着厚厚眼鏡、髮際線後退的中年人,他揉了揉眉心,語氣凝重的說道。
“從專利撰寫的專業水平,和權利要求覆蓋的廣度來看......,這不像是煙霧彈。
撰寫這些專利的人,對這個技術方向的理解,非常深入,甚至......比我們內部的某些預研報告還要超前。”
“特別是關於浸沒液體的溫控,和流體動力學設計,以及防止氣泡產生,和污染物侵入的密封結構......,這些細節,沒有實際的實驗驗證,和深入的工程思考,是寫不出來的。”
“能查到申請人的真實身份嗎?”首席知識產權官問道。
“很難。”負責調查的專員搖頭說道:“這些專利通過至少三層離岸殼公司持有,註冊地分別在開曼羣島,英屬維爾京羣島和盧森堡。
最終受益人,被層層迷霧遮擋。我們動用了在荷蘭和海牙的專利律師網絡,也只能查到這些專利的代理機構,是一家位於瑞士日內瓦的、以保密著稱的精品律所。”
“這家律所的客戶名單,從不對外公開。”
“瑞士......港城…………開曼......”CEO的手指,輕輕敲擊着桌面,眼神銳利:“這種佈局手法,不像是一般的科技公司。
更像是......某個國家的國家隊在操盤。'
他抬起頭,目光掃過在場的每一個人:“先生們,我們可能遇到真正的麻煩了。
如果這些專利背後,真的是龍國政府支持的某個實體,而且他們已經在這個方向上,佈局了至少三到五年.......那麼,我們引以爲傲的193nm ArF乾式光刻路線,可能還沒到巔峯,就已經面臨着被抄後路的風險。'
會議室裏,一片死寂。所有人都明白CEO話裏的分量。ASML之所以能從尼康佳能等老牌光學巨頭的圍剿中,殺出一條血路,靠的就是對技術路線的精準判斷,和近乎偏執的研發投入。
但如果有一條他們未曾充分重視的捷徑,已經被別人提前用專利砌起了高牆......那後果,不堪設想。
“我建議,立刻啓動緊急預案。”CTO沉聲道:“第一,集中我們最精銳的專利和法律團隊,對這些浸沒式專利進行最徹底的無效化分析,和繞過設計評估。”
“第二,祕密組建一支浸沒式光刻的快速攻關團隊,不計成本,在最短時間內,搭建原理驗證機。
我們要親自驗證,這條路到底有多寬,有多遠。’
“第三,”他頓了頓,看向CEO說道:“動用一切可以動用的情報和商業資源,給我查出這些專利背後,到底是誰!”
CEO沉默片刻,緩緩點了點頭道:“同意。立刻執行。”
“另外,”他補充道,目光變得深邃:“派人,去一趟寶島。寶積電的林本艱博士,我記得他幾年前在一次內部研討會上,曾經模糊地提到過,類似用水做鏡頭的想法。
雖然當時被認爲是天方夜譚......但現在看來,也許,我們錯過了什麼重要的信號。”
會議在一片凝重中結束。ASML這部龐大的機器,開始以前所未有的高速運轉起來。
一股無形的暗流,開始從埃因霍溫,湧向全球半導體產業的每一個角落。
而此時,在魔都那間不起眼的“淵”基地深處,秦師傅正戴着老花鏡,用百分表,一點一點地校準着,那臺精密工件臺的導軌平行度。
誤差,已經控制在了令人髮指的0.1微米以內。他對大洋彼岸正在發生的這場風暴,一無所知,也並不關心。
他只知道,手裏的活兒,還得再細一點,再精一點。
潛龍在淵,風雲漸起。
而真正的較量,纔剛剛開始。
1996年10月,寶島新竹,寶積電研發中心。
一間不算寬敞、堆滿了光學圖紙,和實驗設備的辦公室裏,一位戴着厚厚眼鏡、頭髮略顯蓬亂、穿着普通格子襯衫的中年人,正盯着面前一臺老式光學顯微鏡的目鏡,眉頭緊鎖。
他就是林本艱,寶積電資深處長,一位在光學微影領域沉浸了二十餘年的“技術狂人”。
他正在爲一個棘手的問題而苦惱。隨着製程節點向0.18微米、0.13微米邁進,傳統248nm KrF光刻機的分辨率,已經逼近物理極限。
寶積電正在與ASML、尼康等廠商合作,積極推進193nm ArF乾式光刻技術的量產化。
但林本堅心裏清楚,193nm乾式光刻,也只是權宜之計。光的衍射效應,就像一堵無形的牆,擋在了通往更先進製程的道路上。
要想繼續前進,要麼,採用更復雜、更昂貴,遙遙無期的極紫外(EUV)技術,要麼,就是尋找某種旁門左道,突破這堵牆。
“如果......在鏡頭和晶圓之間,不是空氣,而是某種折射率更高的液體呢?”
一個在他腦海中盤旋了數年的,近乎異想天開的念頭,再次浮現。
他拿起筆,在一張草稿紙上,快速地畫起光路示意圖,並寫下幾行計算公式。
理論上,如果用水,折射率約1.44,代替空氣,折射率1,193nm激光的等效波長,可以縮短到大約134nm!
這意味着,不需要開發新的光源,僅僅改變光傳播路徑上的介質,就能實現分辨率的大幅提升!
這個想法,他幾年前在一次內部技術研討會上,曾經模糊地提過一次。
但當時大多數人,包括他自己,都覺得過於大膽,甚至有些離經叛道,會後也就不了了之。
但最近,一些隱約的風聲,讓他重新拾起了這個念頭。
他聽說,荷蘭ASML那邊,似乎在祕密調查一批,關於浸沒式光刻的神祕專利;而業界也流傳着一些,關於“某個東方實體,可能在相關領域有所佈局”的傳聞。
“難道......真的有人,把這個想法,做出來了?”林本堅喃喃自語了起來,眼中閃過一絲複雜的情緒。
有驚訝,有好奇,也有一絲難以言喻的失落和緊迫感。
他放下筆,站起身,在狹小的辦公室裏踱了幾步。然後,他做出了一個決定。
他拿起電話,撥通了ASML一位相熟的技術高管的號碼。
“喂,我是林本艱。關於上次你提到的那個技術諮詢的事情......,我想,我們可能需要當面談談。”
幾天後,林本艱以技術交流的名義,低調訪問了ASML總部。在那間曾讓ASML高層,感到不安的小型會議室裏,他與ASML的CTO和首席知識產權官,進行了一次長達三個小時的閉門會談。
他沒有隱瞞自己的想法,將自己關於“浸沒式光刻”的理論推演,和初步構思,和盤托出。
ASML方面,則在極度保密的前提下,向他展示了那批神祕專利的部分摘要內容,不涉及具體申請人信息。
當林本堅看到那些專利的優先權日期,和權利要求範圍時,他沉默了。
他意識到,自己腦海中那個盤旋多年的,被視爲天方夜譚的想法,不僅有人想到了,而且已經付諸實踐,並築起了令人望而生畏的專利壁壘。
領先的時間,可能長達三年以上......
“林博士,您是這個領域公認的頂尖專家。”ASML的CTO,語氣誠懇而帶着一絲焦慮的說道。
“我們希望能與您,與寶積電,建立更緊密的合作關係。共同應對這個......未知的挑戰。”
“如果,我是說如果,這些專利的背後,真的是一個我們尚未完全瞭解的強大對手,那麼,單憑任何一家公司的力量,可能都難以抗衡。我們需要聯合起來。”
林本堅沒有立刻回答。他端起面前早已涼透的咖啡,喝了一口,感受着那苦澀的滋味在舌尖化開。他腦海中,無數念頭在激烈碰撞。作爲一名畢生致力於光刻技術突破的科學家,他本能地爲有人提前實現了他的構想而感到某
種複雜的情緒;但作爲一名臺積電的高管,他更清楚,這項技術一旦成熟,將對整個半導體產業格局產生何等深遠的影響。
“我需要時間,考慮一下。”最終,他緩緩說道。
離開ASML總部時,埃因霍溫的天空,飄起了細雨。林本堅坐在車裏,望着窗外朦朧的景色,心中卻比來時,更加波瀾起伏。
他隱約感覺到,一場足以改變全球半導體產業權力格局的風暴,正在悄然醞釀。而他,以及他身後的臺積電,正站在一個必須做出選擇的十字路口。